Sinteren van metaalspuitgieten (MIM) en keramische spuitgieten (CIM) Oplossingen

ONE.MIM sinteren

Metaalspuitgietproces omvat voornamelijk productontwerp, matrijsontwerp, kwaliteitstesten, mengen, gieten, ontvetten, sinteren, secundaire verwerking en andere 8 belangrijke schakels. JH MIM kan ontvettings- en sinterapparatuur op maat leveren volgens de product- en procesvereisten van de klant en kan worden geïntegreerd om geïntegreerde vacuümontvettings- en sinterapparatuur te leveren.

1. Geïntegreerde apparatuur voor thermische ontvetting van grafiet in het vacuümveld;

Geschikt materiaal:

IJzer-nikkellegering, de meeste roestvrij staalsoorten (17-4ph, 316L, PANACEA, enz.), matrijsstaal, snelstaal, enz.

Jiehuang MIM biedt de volgende oplossingen voor dergelijke ijzer-nikkel legeringen, roestvrij staal (17-4ph, 316L, PANACEA, enz.), matrijzenstaal, snelstaal, enz.:

2. Geïntegreerde apparatuur voor het ontvetten van metalen in het hete veld met behulp van vacuüm;

Geschikt materiaal

Laagkoolstof roestvrij staal, titaniumlegering (Ti, TC4), koperlegering, wolfraamlegering, superlegering (718, 713), enz.

Jiehuang MIM is een reeks materialen: koolstofarm roestvrij staal, titaniumlegering (Ti, TC4), koperlegering, wolfraamlegering, superlegering (718, 713), enz. Wij bieden de volgende oplossingen:

TWEE, MIM drukontvettingssintering

Processtroom en introductie

Om het nadeel van de lage dichtheid van vacuümsinterprocesproducten op te lossen, is een geïntegreerde oven voor ontvettingssintering ontwikkeld, die de sinterdichtheid van producten bij hoge temperaturen kan verhogen door middel van hoge gasdruk.

1, 1MPa grafiet thermische veld vacuüm druk ontvetting sinter geïntegreerde apparatuur;

Geschikt materiaal:

Wolfraamcarbide, titaancarbide, tantaalcarbide, enz.

Jiehuang MIMSpecificaties voor ontvettingssinteren bij 1 MPa druk:

2,6MPa grafiet thermische veld vacuüm druk ontvetting sinter geïntegreerde apparatuur;

Geschikt materiaal

Wolfraamcarbide, titaancarbide, tantaalcarbide, enz.

Specificaties voor Jiehuang MIM 6MPa drukontvettingssinteren:

3, 10MPa grafiet thermische veld vacuüm druk ontvetting sinter geïntegreerde apparatuur;

Geschikt materiaal

Wolfraamcarbide, titaancarbide, tantaalcarbide, enz.

Specificaties voor Jiehuang MIM 10MPa drukontvettingssinteren:

DRIE, CIM atmosferische druk sinteren

Geïntegreerde apparatuur voor thermische vacuümontvetting en sintering met grafiet;

Keramisch spuitgietproces omvat voornamelijk productontwerp, matrijsontwerp, kwaliteitstesten, mengen, vormen, ontvetten, sinteren, secundaire verwerking en andere 8 belangrijke schakels, Jiehuang MIM kan ontvettings- en sinterapparatuur aanpassen aan de product- en procesvereisten van de klant en kan worden geïntegreerd om geïntegreerde vacuümontvettings- en sinterapparatuur te verkrijgen.

Geschikt materiaal

Zirkonia, aluminiumoxide, siliciumnitride, siliciumcarbide, enz.;

De Jiehuang CIM-oplossing is als volgt:

De belangrijkste kenmerken zijn als volgt:

1. Producten met complexe geometrische vormen kunnen vrij en direct worden vervaardigd.
2. De vormcyclus is kort, slechts enkele tienden van een honderdste van de tijd die nodig is voor het gieten en warm persen, de sterkte van het blok is hoog, de productie kan worden geautomatiseerd en het beheer en de controle van het productieproces zijn ook handig, geschikt voor massaproductie.
3. Dankzij de goede vloeibaarheid van het bindmiddel is de dichtheid van de spuitgietstaaf vrijwel gelijkmatig.
4. Door de toevoeging van meer bindmiddelen bij spuitgieten is de ontvettingstijd lang, vooral bij producten met een grote dikte kan de ontvettingstijd oplopen tot 100-200 uur.
5. Omdat het poeder en het bindmiddelmengsel zeer uniform zijn, is de ruimte tussen het poeder zeer klein en zijn de krimpkarakteristieken tijdens het sinterproces in principe hetzelfde. Hierdoor heeft het product in alle onderdelen een uniforme dichtheid en een hoge geometrische nauwkeurigheid.
6. Effectieve oppervlaktegrootte: 400X400X1500mm
7. Temperatuuruniformiteit: ±3℃